外企壟斷95％市場份額！陸「光阻劑」產業拚全面突圍

中國推動半導體自主化的戰略，正從廣泛的政策願景轉向對關鍵瓶頸材料的精準突破，其中在矽晶圓上蝕刻微型電路時不可或缺的感光化學材料「光阻劑」（photoresist），正逐漸成為新的戰場。

據《南華早報》的報導，這個為微影製程（photolithography）提供關鍵材料的產業，未來幾年預計將進入「加速突破與大規模應用」的關鍵階段。中國主要光阻劑供應商之一「徐州博康化學科技股份有限公司」董事長傅志偉表示，該產業正迎來重要轉折。

傅志偉同時也是第14屆全國人民代表大會代表。他在上週中國年度政治會議「兩會」期間接受《南華早報》訪問時表示，公司目標是在5年內實現多種先進製程核心光阻劑材料的量產。他補充，隨著投入持續增加，中國光阻劑產業正從過去的「單點突破」逐漸轉向「系統性發展」。

這些言論顯示，中國正試圖在新提出的「十五五規劃」（2026至2030年）框架下，進一步擴大晶片自主化戰略的範圍。

據悉，光阻劑是1種用於微影製程的耐蝕刻薄膜材料，主要應用於積體電路和離散元件的細微圖形加工。依照曝光波長分類，光阻劑可分為多種類型，包括寬頻紫外線（broadband UV）、G線（G-line）、I線（I-line）、KrF、ArF、極紫外光（EUV）以及電子束（electron beam）等。其中KrF、ArF與EUV被視為最先進的類型。

在今年「兩會」提出的中國「十五五規劃」中，官方呼籲要「鞏固並強化成熟製程節點、提升先進製程技術能力、加速關鍵設備、材料與零組件的研發，同時推進高性能處理器與高密度記憶體的發展。」

目前中國在較舊世代的G線與I線光阻劑領域已取得超過20％的自給率，這些材料主要用於電源晶片與發光二極體（LED）。然而，高階光阻劑市場仍由日本與美國企業主導，包括日企JSR股份公司、東京應化工業、信越化學工業、富士電子材料，以及美企杜邦公司（DuPont）。

根據總部位於浙江省杭州市的「財通證券」引用中國電子材料行業協會的數據指出，這些外國企業合計占據中國光阻劑市場將近95％的份額。KrF與ArF光阻劑的本土化率分別僅約3％與不到1％。

對徐州博康化學科技股份公司而言，最重要的目標是突破關鍵技術瓶頸，特別是在KrF與ArF光刻膠領域取得重大進展。傅志偉表示：「我們將動員最強大的資源，在更先進製程節點所需的高端光阻劑開發上發起全面攻勢。」

他指出，公司目前已實現從單體（monomers）、樹脂（resins）、光酸（photoacids）到最終光阻劑產品的完整產業鏈自主化。公司的KrF與ArF中高端產品已經「通過主要晶圓代工廠的驗證」，並開始逐步擴大產量。

這家公司在上海設有研發中心，在中國江蘇省東部的徐州市設有生產設施，被視為中國少數幾家有望在先進光阻劑領域實現自主化的企業之一。

另1家專注於ArF光阻劑的企業「江蘇南大光電材料股份有限公司」今年2月表示，公司目前具備每年50噸的產能，並能為初期訂單維持穩定供應。

該領域的其他競爭者還包括「上海新陽半導體材料股份有限公司」、「瑞紅科技股份有限公司」，以及位於蘇州市的「晶瑞電子材料股份有限公司」。這些公司多數已在入門級材料取得進展，並正試圖進一步進軍高端市場。