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晶瑞光黃光製程設備Q3裝機 環境光源感測器等3新品開拓新市場

UV曝光機 蝕刻機 黃光製程 環境光源感測器 ALS 晶瑞光電
晶瑞光黃光製程設備Q3裝機 環境光源感測器等3新品開拓新市場

晶瑞光向日系設備商採購UV曝光機、蝕刻機等黃光製程相關設備,預計今年第3季前完成裝機。(圖/Google Maps)

擁有市場獨門專利濺鍍技術的晶瑞光電,近日完成向日系設備商採購UV曝光機、蝕刻機等黃光製程相關設備,預計今年第3季前完成裝機。未來,隨著新設備的導入,將現有製程延伸至半導體黃光製程,成為兼具光學與半導體技術的光學廠,產品線也將擴增至環境光源感測器(ALS,Ambient Light Sensor)、Micro LED、Micro Filter等。

根據國外研究機構Grand View Research的報告指出,全球光傳感器市場規模在2019年達28.5億美元(約新台幣827億元),預計2020年至2027年年複合成長率為10.9%,智能居家、汽車領域、戶外照明等皆將是推動市場規模持續放大。晶瑞光電表示,隨著第3季黃光製程相關設備導入後,產品線的應用將橫向擴增,包括環境光源感測器、Micro LED、Micro Filter等,將為營運增添新動能。

晶瑞光電進一步說明,瞄準未來ALS市場發展商機,跨入半導體黃光製程,延伸產品線至ALS Wafer coating新技術,目前是先針對低階環境光感測器進行試驗,也同步申請專利中,有望於今年第3季前裝機後、今年第4季調機、2022年起可正式向外業務接單貢獻營運。

此Wafer coating新技術,是直接在Wafer上利用黃光製程,以及真空分光鍍膜專利的RGB-IR鍍膜技術,讓產品上少了一層覆蓋玻璃,整體的感測器會變更薄,取代彩色濾片,此技術滿足未來消費性電子產品薄型化、微型化態勢。

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